• 简体   /   繁体
国产光刻机官宣成功半导体产业链再次得到提振-证券市场周刊2024年36期

国产光刻机官宣成功半导体产业链再次得到提振

作者:梁杏 字体:      

近日,工信部公布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,包含氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中,氟化氩光刻机光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm。

国产光刻机取得突破半导体自主(试读)...

证券市场周刊

2024年第36期