• 简体   /   繁体
高管海外背景与在位企业探索式创新:一个多层次调节模型-科技进步与对策2024年09期

高管海外背景与在位企业探索式创新:一个多层次调节模型

作者:王子蔚 刘军 徐若凡 字体:      

摘 要:创新是引领发展的第一动力,在位企业创新是产业转型升级与高质量发展的微观着力点。基于A股上市公司数据,实证分析发现:高管海外背景正向影响在位企业探索式创新。调节效应分析表明,高管团队异质性、业绩期(试读)...

科技进步与对策

2024年第09期